Parsons The New School for Design

• 地址：美国纽约州纽约西12街66号
• 优势专业： 服装设计|室内设计|插画设计
• 语言要求：TOEFL: 92  IELTS: 7.0
• 申请截止日期：11月1日、常规：1月15日
• 申请难度：困难

Fashion Institute of Technology

• 地址：美国纽约州纽约市第7大道27街
• 优势专业： 服装设计|插画设计
• 语言要求：TOEFL: 80  IELTS: 6.5
• 申请截止日期：10月1日、常规：1月1日
• 申请难度：困难

Savannah College of Art and Design

• 地址：Savannah and Atlanta, Georgia, US; Lacoste, France; Hong Kong
• 优势专业： 服装设计|平面设计|插画设计
• 语言要求：TOEFL: 85  IELTS: 6.5
• 申请截止日期：1月9日
• 申请难度：一般

Temple University

• 地址：Philadelphia, PA, US
• 优势专业： 纯艺术
• 语言要求：TOEFL: 79  IELTS: 本6.0 研6.5
• 申请截止日期：1月15日
• 申请难度：一般

California College of the Arts

• 地址：加利福尼亚州
• 优势专业： 工业设计|室内设计|摄影|平面设计|服装设计
• 语言要求：TOEFL: 80  IELTS: 本6.5 研7.5
• 申请截止日期：1月15日
• 申请难度：困难

Maryland Institute College of Art

• 地址：Baltimore, Maryland, US
• 优势专业： 交互设计|平面设计|纯艺术|插画设计
• 语言要求：TOEFL: 本80+ 研80+  IELTS: 本6.5+ 研6.5+
• 申请截止日期：2月1日
• 申请难度：困难

School of Visual Arts (SVA)

• 地址：美国纽约曼哈顿区
• 优势专业： 插画设计|交互设计|产品设计|室内设计
• 语言要求：TOEFL: 79  IELTS: 6.5
• 申请截止日期：5月
• 申请难度：困难

Virginia Commonwealth University

• 地址：Richmond, Virginia, US
• 优势专业： 服装设计|交互设计|平面设计|纯艺术
• 语言要求：TOEFL: 本80 研100  IELTS: 本6.0 研6.5
• 申请截止日期：2月1日
• 申请难度：一般

California College of the Arts

• 地址：San Francisco&Oakland, California, US
• 优势专业： 工业设计|交互设计|平面设计|纯艺术
• 语言要求：TOEFL: 本79 研100  IELTS: 本6.5 研7.5
• 申请截止日期：3月1日
• 申请难度：一般

Arizona State University

• 地址：Phoenix, AZ, US
• 优势专业： 室内设计|摄影
• 语言要求：TOEFL: 本61-100 研80-100  IELTS: 6.0-7.0
• 申请截止日期：2月1日
• 申请难度：一般

Virginia Commonwealth University

• 地址：弗吉尼亚州州府里士满市
• 优势专业： 视觉传达|雕塑|平面设计|纯艺术|多媒体设计
• 语言要求：TOEFL: 100  IELTS: N/A
• 申请截止日期：10月1日，6月1日
• 申请难度：困难

Carnegie Mellon University

• 地址：宾夕法尼亚州匹兹堡
• 优势专业： 工业设计|交互设计|多媒体设计|平面设计
• 语言要求：TOEFL: 102  IELTS: 7.5
• 申请截止日期：本科 ED 11月1日 RD 1月1日
• 申请难度：困难

Columbus College of Art & Design

• 地址：美国俄亥俄州哥伦布市克利夫兰大街60号
• 优势专业： 服装设计|插画设计|工业设计|动画设计|...
• 语言要求：TOEFL: 61  IELTS: 6.0
• 申请截止日期：早申：12月1日、常规：2月15日
• 申请难度：困难

Kent State University

• 地址：美国俄亥俄州肯特市东峰会街800号
• 优势专业： 室内设计|服装设计|工业设计|动画设计|...
• 语言要求：TOEFL: 71  IELTS: 6.0
• 申请截止日期：早申：1月15日、常规：3月1日
• 申请难度：困难

San Jose State University - School of Art & Design

• 地址：美国加利福尼亚州旧金山市
• 优势专业： 摄影
• 语言要求：TOEFL: 90  IELTS: 7.5
• 申请截止日期：11月30日
• 申请难度：一般